નીચેના પૈકી કઈ ઇલેક્ટ્રોન રચના સૌથી ઓછી ઇલેક્ટ્રોન બંધુતા ધરાવે છે?

નીચેના તત્વોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) ના વધતા ક્રમનો સાચો વિકલ્પ કયો છે?

List-$I$ માં આપેલા તત્વોને List-$II$ માં તેમના અનુરૂપ ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી મૂલ્યો સાથે જોડો:

List-$I$ (તત્વ)	List-$II$ (ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી $kJ \ mol^{-1}$ માં)
$(A)$ $F$	$(I)$ $-141$
$(B)$ $Cl$	$(II)$ $-328$
$(C)$ $O$	$(III)$ $-200$
$(D)$ $S$	$(IV)$ $-349$

તત્વની બીજી ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી:

આવર્ત અને સમૂહમાં ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના મૂલ્યમાં થતા ફેરફારો સમજાવો.

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન,$O^{2-}_{(g)}$ ની રચના માટે નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પ્રથમ ઉષ્માક્ષેપક અને ત્યારબાદ ઉષ્માશોષક તબક્કાની જરૂર પડે છે:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
આમ,વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ બનવાની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ છે,ભલે $O^{2-}$ એ નિયોન સાથે આઇસોઇલેક્ટ્રોનિક હોય. આનું કારણ એ છે કે,