બીજા આવર્તના તત્વોમાં,આયનીકરણ એન્થાલ્પીનો વાસ્તવિક ક્રમ $Li < B < Be < C < O < N < F < Ne$ છે. શા માટે સમજાવો:
$(i)$ $Be$ ની $\Delta_{i}H$ એ $B$ કરતા વધારે છે.
$(ii)$ $O$ ની $\Delta_{i}H$ એ $N$ અને $F$ કરતા ઓછી છે?

(N/A) સામાન્ય રીતે,જ્યારે આપણે આવર્ત કોષ્ટકમાં ડાબેથી જમણે જઈએ છીએ,ત્યારે આયનીકરણ એન્થાલ્પીનું મૂલ્ય વધે છે.
$(i)$ $\Delta_{i}H(Be) > \Delta_{i}H(B)$: $Be$ ની ઇલેક્ટ્રોનિક રચના $1s^2 2s^2$ છે,જ્યારે $B$ ની $1s^2 2s^2 2p^1$ છે. $Be$ ની સ્થાયી પૂર્ણ ભરાયેલી $2s$ કક્ષકને કારણે તેમાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવો મુશ્કેલ છે.
$(ii)$ $O$ ની આયનીકરણ એન્થાલ્પી $N$ અને $F$ કરતા ઓછી છે કારણ કે $N$ માં અડધી ભરાયેલી $2p^3$ કક્ષક છે જે વધુ સ્થાયી છે,અને $F$ માં કેન્દ્રીય વીજભાર વધુ હોવાથી તે ઇલેક્ટ્રોનને મજબૂતીથી પકડી રાખે છે. $O$ માં ઇલેક્ટ્રોન-ઇલેક્ટ્રોન અપાકર્ષણને કારણે આયનીકરણ એન્થાલ્પી ઓછી હોય છે.