Difficult
નીચે બે વિધાનો આપેલા છે: એકને વિધાન $A$ તરીકે અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરવામાં આવ્યું છે:
વિધાન $A$: એસિટલ/કીટલ બેઝિક માધ્યમમાં સ્થાયી છે.
કારણ $R$: આલ્કોક્સાઇડ આયનની ઊંચી લિવિંગ ટેન્ડન્સી (મુક્ત થવાની વૃત્તિ) બેઝિક માધ્યમમાં એસિટલ/કીટલને સ્થિરતા આપે છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:
વિધાન $A$: એસિટલ/કીટલ બેઝિક માધ્યમમાં સ્થાયી છે.
કારણ $R$: આલ્કોક્સાઇડ આયનની ઊંચી લિવિંગ ટેન્ડન્સી (મુક્ત થવાની વૃત્તિ) બેઝિક માધ્યમમાં એસિટલ/કીટલને સ્થિરતા આપે છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:
- A$A$ સાચું છે પરંતુ $R$ ખોટું છે
- B$A$ ખોટું છે પરંતુ $R$ સાચું છે
- C$A$ અને $R$ બંને સાચા છે અને $R$ એ $A$ ની સાચી સમજૂતી છે
- D$A$ અને $R$ બંને સાચા છે પરંતુ $R$ એ $A$ ની સાચી સમજૂતી નથી
Explore More
Similar Questions
$CH_3-CO-CH_2-COOH$ $\xrightarrow{\Delta} X$ $\xrightarrow[OH^-]{HCN} Y$,$Y$ શું છે?
Medium
View Solutionઆપેલ પ્રક્રિયામાં $A$ નું બંધારણ શું છે?
નીચેનામાંથી કયા સંયોજનમાં જલીયકરણ (hydration) નું પ્રમાણ સૌથી વધુ છે?
Medium
View Solutionનીચેનામાંથી કયું $-ve$ ટોલેન્સ પરંતુ $+ve$ આયોડોફોર્મ કસોટી આપશે?
Difficult
View Solutionનીચેની પ્રતિક્રિયા શ્રેણીમાં $(A)$ ને ઓળખો:
$\mathop {(A)}\limits_{\text{હકારાત્મક આયોડોફોર્મ કસોટી આપે છે}}$ $\xrightarrow[(ii) H^{+}, H_2O, (iii) \text{સાંદ્ર } H_2SO_4/\Delta ]{(i) CH_3MgBr} (B)$ $\xrightarrow{O_3/Zn, H_2O}$
$\mathop {(A)}\limits_{\text{હકારાત્મક આયોડોફોર્મ કસોટી આપે છે}}$ $\xrightarrow[(ii) H^{+}, H_2O, (iii) \text{સાંદ્ર } H_2SO_4/\Delta ]{(i) CH_3MgBr} (B)$ $\xrightarrow{O_3/Zn, H_2O}$
Vedclass Products
For Students
Vedclass Test Series
Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.
Start Free TrialFor Teachers
Exam Paper Generator
Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.
Try FreeFor Institutes
Online Exam Module
Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.
See Demo