અષ્ટફલકીય સંકીર્ણમાં સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન કયા પરિબળો પર આધાર રાખે છે?

Vedclass pdf generator app on play store
Vedclass iOS app on app store
(N/A) સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન $\Delta_{o}$ નીચેના પરિબળો પર આધાર રાખે છે:
$(i)$ ધાતુ આયનનો વીજભાર (ઓક્સિડેશન અવસ્થા): ધાતુ આયન પરનો વીજભાર જેટલો વધારે,તેટલું સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન વધારે હોય છે.
$(ii)$ લિગેન્ડની પ્રબળતા: જો લિગેન્ડ પ્રબળ હોય,તો તે પ્રબળ ક્ષેત્ર ઉત્પન્ન કરે છે જે $d$-કક્ષકોનું મોટું વિભાજન કરે છે અને તેથી સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન વધે છે. નિર્બળ લિગેન્ડના કિસ્સામાં,સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન ઓછું હોય છે.
લિગેન્ડની પ્રબળતા પ્રાયોગિક રીતે નક્કી કરવામાં આવે છે. જ્યારે આ લિગેન્ડને ક્ષેત્રની પ્રબળતાના વધતા ક્રમમાં ગોઠવવામાં આવે છે,ત્યારે તેને સ્પેક્ટ્રોકેમિકલ શ્રેણી તરીકે ઓળખવામાં આવે છે:
$I^{-} < Br^{-} < SCN^{-} < Cl^{-} < S^{2-} < F^{-} < OH^{-} < C_{2}O_{4}^{2-} < H_{2}O < NCS^{-} < edta^{4-} < NH_{3} < en < CN^{-} < CO$

Explore More

Similar Questions

નીચેનામાંથી કયો નિર્બળ ક્ષેત્ર લિગેન્ડ (weak field ligand) છે?

અષ્ટફલકીય સંકીર્ણમાંથી બંને અક્ષીય લિગેન્ડ્સ ($z-$ અક્ષ પરના) સંપૂર્ણપણે દૂર કરવાથી નીચેનામાંથી કઈ સ્પ્લિટિંગ પેટર્ન મળે છે? (સાપેક્ષ ઓર્બિટલ ઊર્જા સ્કેલ પર નથી)

ટેટ્રાહેડ્રલ કોમ્પ્લેક્સમાં $3d^4$ કોન્ફિગરેશન ધરાવતા મેટલ આયન માટે,જે પ્રબળ ફિલ્ડ લિગાન્ડ્સથી ઘેરાયેલું છે,તેનું $CFSE$ મૂલ્ય શું હશે?

નીચેના લિગાન્ડ્સને તેમની ક્ષેત્ર પ્રબળતાના વધતા ક્રમમાં ગોઠવો.
$I$. $H_2O$$II$. $CO$
$III$. $NH_3$$IV$. $I^{-}$
$V$. $F^{-}$

$[Co(en)_3]^{3+}$,$[CoF_6]^{3-}$,$[Mn(H_2O)_6]^{2+}$ અને $[Zn(H_2O)_6]^{2+}$ સંકીર્ણો પૈકી જેનું $CFSE$ સૌથી વધુ હોય તે સંકીર્ણની $d-$કક્ષકની ઇલેક્ટ્રોનીય રચના $:$ છે.

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo