निम्नलिखित तत्वों में उपधातुओं (metalloids) की संख्या कितनी है: $Si$,$Mn$,$B$,$F$,$Cu$,$Ag$,$K$,$Sb$,$As$,$Na$,$Ge$?

$Be$ और $Al$ के बीच विकर्ण संबंध का कारण है:

$CO_2, CuO, CaO, H_2O$ की अम्लीय शक्ति का सही क्रम पहचानें:-

निम्नलिखित अम्लों को उनकी अम्लीय शक्ति के घटते क्रम में व्यवस्थित कीजिए: $Cl(OH) \ (I)$,$Br(OH) \ (II)$,$I(OH) \ (III)$.

$HClO_4$,$H_2SO_4$ की तुलना में एक प्रबल अम्ल है,जो निम्नलिखित में से किन कारणों से है?
$1$. $HClO_4$ में $Cl$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+7$ है और $H_2SO_4$ में $S$ की $+6$ है।
$2$. $Cl$,$S$ की तुलना में अधिक विद्युत ऋणात्मक है।
$3$. $HClO_4$ मोनोबेसिक है,जबकि $H_2SO_4$ डाइबैसिक है।
$4$. $HClO_4$ का $ClO_3$ भाग,$H_2SO_4$ के $SO_3$ भाग की तुलना में प्रोटॉन मुक्त करने के लिए $O-H$ बंध को अधिक आसानी से तोड़ सकता है।

कुछ तत्वों की प्रथम $(\Delta_{i} H_{1})$ और द्वितीय $(\Delta_{i} H_{2})$ आयनन एन्थैल्पी ($kJ \ mol^{-1}$ में) और $(\Delta_{eg} H)$ इलेक्ट्रॉन लब्धि एन्थैल्पी ($kJ \ mol^{-1}$ में) नीचे दी गई हैं:

तत्व	$\Delta_{i} H_{1}$	$\Delta_{i} H_{2}$	$\Delta_{eg} H$
$I$	$520$	$7300$	$-60$
$II$	$419$	$3051$	$-48$
$III$	$1681$	$3374$	$-328$
$IV$	$1008$	$1846$	$-295$
$V$	$2372$	$5251$	$+48$
$VI$	$738$	$1451$	$-40$

उपरोक्त में से कौन सा तत्व निम्नलिखित के लिए संभावित है:
$(a)$ सबसे कम सक्रिय तत्व।
$(b)$ सबसे अधिक सक्रिय धातु।
$(c)$ सबसे अधिक सक्रिय अधातु।
$(d)$ सबसे कम सक्रिय अधातु।
$(e)$ वह धातु जो $MX_{2}$ $(X = \text{हैलोजन})$ सूत्र का एक स्थिर बाइनरी हैलाइड बना सकती है।
$(f)$ वह धातु जो $MX$ $(X = \text{हैलोजन})$ सूत्र का एक मुख्य रूप से स्थिर सहसंयोजक हैलाइड बना सकती है?