આપેલ સંયોજનમાં જ્યારે $X$ હોય ત્યારે ઇલેક્ટ્રોફાઇલના હુમલાનો દર સૌથી ઓછો હોય છે

નીચેનામાંથી કયામાં સંસ્પંદન બંધારણો દોરતી વખતે ઇલેક્ટ્રોનની ગતિ દર્શાવવા માટે વક્ર તીર યોગ્ય રીતે દર્શાવેલ નથી?

નીચેનામાંથી કયું સાચું છે?

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે:
વિધાન $I$: $O_2N-C_6H_4-CH^+-C_6H_4-OCH_3$ માં, કાર્બોકેટાયન $-OCH_3$ સમૂહની $+R$ અસર દ્વારા સ્થાયી થાય છે.
વિધાન $II$: $O_2N-C_6H_4-CH^--C_6H_4-OCH_3$ માં, કાર્બેનાયન $-NO_2$ સમૂહની $-R$ અસર દ્વારા સ્થાયી થાય છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના સંદર્ભમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:

$R-CH=CH_2$ સંયોજન માટે,$R$ સમૂહની અતિસંયુગ્મન (hyperconjugation) અસરનો ક્રમ શું છે,જ્યાં $R$ એ $CH_3-$,$CH_3CH_2-$ અથવા $(CH_3)_2CH-$ છે?

કાર્બનિક પ્રતિક્રિયા પદ્ધતિઓમાં ઇલેક્ટ્રોનની ગતિ કેવી રીતે દર્શાવવામાં આવે છે?