एक प्रकाश-संवेदी पदार्थ की देहली आवृत्ति $v$ है। जब $2v$ आवृत्ति के फोटॉन पदार्थ पर आपतित होते हैं,तो फोटोइलेक्ट्रॉन अधिकतम रैखिक संवेग $P$ के साथ उत्सर्जित होते हैं। अधिकतम रैखिक संवेग $2P$ वाले फोटोइलेक्ट्रॉन प्राप्त करने के लिए,आपतित फोटॉनों की आवृत्ति क्या होनी चाहिए ($v$ में)?

जब $8 \times 10^{14} \ Hz$ आवृत्ति का प्रकाश एक सतह पर आपतित होता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन $7 \times 10^5 \ m/s$ की अधिकतम गति के साथ उत्सर्जित होते हैं। इस सतह के लिए देहली आवृत्ति (threshold frequency) .......... है।

जब $\lambda$ तरंगदैर्ध्य का प्रकाश एक फोटोसेल के उत्सर्जक (emitter) पर गिरता है,तो उत्सर्जित प्रकाशिक इलेक्ट्रॉनों (photoelectrons) की अधिकतम गति $V$ होती है। यदि आपतित तरंगदैर्ध्य को बदलकर $\frac{2\lambda}{3}$ कर दिया जाए,तो उत्सर्जित प्रकाशिक इलेक्ट्रॉनों की अधिकतम गति क्या होगी?

$400 \,nm$ तरंगदैर्ध्य के आपतित प्रकाश द्वारा एक धात्विक सतह से उत्सर्जित सभी इलेक्ट्रॉन $2 \,N/C$ के एकसमान विद्युत क्षेत्र की दिशा में $1 \,m$ की दूरी तय करके विराम अवस्था में आ जाते हैं। सतह का कार्य फलन है ($\,eV$ में)

जब प्रकाश का एक बिंदु स्रोत एक फोटोसेल से $1 \ m$ की दूरी पर होता है,तो कट-ऑफ वोल्टेज $V$ पाया जाता है। यदि उसी स्रोत को फोटोसेल से $2 \ m$ की दूरी पर रखा जाए,तो कट-ऑफ वोल्टेज होगा

प्रकाश-विद्युत प्रभाव के एक प्रयोग में,$f$ धातु की सतह पर आपतित विकिरणों की आवृत्ति है और $I$ आपतित विकिरणों की तीव्रता है। निम्नलिखित कथनों पर विचार करें। कौन से कथन सही हैं?
$(A)$ यदि $I$ और कार्य फलन (work function) को स्थिर रखकर $f$ को बढ़ाया जाता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा बढ़ जाती है।
$(B)$ यदि कैथोड और एनोड के बीच की दूरी बढ़ाई जाती है,तो निरोधी विभव (stopping potential) बढ़ जाता है।
$(C)$ यदि $f$ और कार्य फलन को स्थिर रखकर $I$ को बढ़ाया जाता है,तो निरोधी विभव समान रहता है और संतृप्ति धारा (saturation current) बढ़ जाती है।
$(D)$ यदि $f$ और $I$ को स्थिर रखकर कार्य फलन को घटाया जाता है,तो निरोधी विभव बढ़ जाता है।