નીચેનામાંથી કયા તત્વની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) સૌથી ઓછી હશે?

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન $O^{2-}$ ના નિર્માણ માટે ઉષ્માક્ષેપક પ્રક્રિયાની જરૂર પડે છે,ત્યારબાદ નીચે દર્શાવ્યા મુજબ ઉષ્માશોષક તબક્કો આવે છે. વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ ના નિર્માણની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ $(\Delta H^{\ominus} = +ve)$ છે,ભલે તેની પાસે નજીકના નિષ્ક્રિય વાયુ નિયોન જેવી સ્થાયી ઇલેક્ટ્રોન રચના હોય. આનું કારણ શું છે?
$O_{(g)} + e^{-} \longrightarrow O^{-}_{(g)} ; \Delta H^{\ominus} = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^{-} \longrightarrow O^{2-}_{(g)} ; \Delta H^{\ominus} = +760 \ kJ \ mol^{-1}$

નીચે આપેલી તત્ત્વોની દરેક જોડીમાં કયું તત્ત્વ વધુ ઋણ ઇલેક્ટ્રોનપ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી ધરાવે છે?
$(i)$ $O$ અથવા $F$ $(ii)$ $F$ અથવા $Cl$

નિષ્ક્રિય વાયુઓ માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) કેટલી હોય છે?

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઈડ આયન,$O^{2-}_{(g)}$,બનવાની પ્રક્રિયામાં નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પહેલા ઉષ્માક્ષેપક અને પછી ઉષ્માશોષક તબક્કો જરૂરી છે:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^{\Theta} = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^{\Theta} = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
આમ,વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ બનવાની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ છે,ભલે $O^{2-}$ એ નિયોન સાથે આઈસોઈલેક્ટ્રોનિક હોય. આનું કારણ એ છે કે,

$N$,$S$,$O$ અને $F$ ને ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના ઘટતા ક્રમમાં ગોઠવો.