જો તાપમાન અને દબાણની સમાન પરિસ્થિતિઓમાં અધિશોષક સમાન રહે,તો નીચેનામાંથી કયો વાયુ વધુ પ્રમાણમાં અધિશોષિત થાય છે?

$1 \ g$ ચારકોલ પર એસિટિક એસિડનું સંપૂર્ણ મોનોલેયર બનાવવા માટે,$100 \ mL$ $0.5 \ M$ એસિટિક એસિડનો ઉપયોગ કરવામાં આવ્યો હતો. થોડો એસિટિક એસિડ અધિશોષિત થયા વગરનો રહ્યો. અધિશોષિત ન થયેલા એસિટિક એસિડને તટસ્થ કરવા માટે,$40 \ mL$ $1 \ M$ $NaOH$ દ્રાવણની જરૂર પડી. જો એસિટિક એસિડનો દરેક અણુ ચારકોલ પર $P \times 10^{-23} \ m^2$ સપાટીનું ક્ષેત્રફળ રોકે છે,તો $P$ નું મૂલ્ય $\qquad$ છે.
[આપેલ ડેટાનો ઉપયોગ કરો : ચારકોલનું સપાટીનું ક્ષેત્રફળ $= 1.5 \times 10^2 \ m^2 \ g^{-1}$; એવોગેડ્રો આંક $(N_A) = 6.0 \times 10^{23} \ mol^{-1}$]

એક અધિશોષણ પ્રયોગમાં, $\log (x/m)$ વિરુદ્ધ $\log P$ નો આલેખ $45^{\circ}$ ના ઢાળ સાથે સુરેખ જોવા મળ્યો હતો. $\log (x/m)$ ધરી પરનો આંતરછેદ $0.3$ મળ્યો હતો. $1 \ atm$ દબાણ હેઠળ ચારકોલના પ્રતિ ગ્રામ અધિશોષિત વાયુનું પ્રમાણ કેટલું હશે?

અધિશોષણના પ્રકારો વિશે માહિતી આપો.

લેંગ્મ્યુર અધિશોષણ સમતાપી મુજબ,નીચેનામાંથી કયો આલેખ સીધી રેખા આપે છે?

જ્યારે $O_{2}$ ધાતુની સપાટી પર અધિશોષિત થાય છે,ત્યારે ધાતુમાંથી $O_{2}$ માં ઇલેક્ટ્રોનનું સ્થાનાંતર થાય છે. આ અધિશોષણ અંગેનું(ના) $TRUE$ વિધાન(નો) કયું(કયા) છે?
$(A)$ $O_{2}$ ભૌતિક અધિશોષિત છે
$(B)$ ઉષ્મા મુક્ત થાય છે
$(C)$ $O_{2}$ ની $\pi_{2p}^{*}$ ની ઓક્યુપન્સી વધે છે
$(D)$ $O_{2}$ ની બંધ લંબાઈ વધે છે