આયનીકરણ એન્થાલ્પીના સંદર્ભમાં નીચેનામાંથી કયું વિધાન ખોટું છે?

  • A
    દરેક ક્રમિક ઇલેક્ટ્રોન માટે આયનીકરણ એન્થાલ્પી વધે છે.
  • B
    નિષ્ક્રિય વાયુની ઇલેક્ટ્રોન રચનાના કોર (core) માંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા પર આયનીકરણ એન્થાલ્પીમાં સૌથી મોટો વધારો જોવા મળે છે.
  • C
    સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોનનું નિર્ધારણ આયનીકરણ એન્થાલ્પીમાં મોટા ઉછાળા દ્વારા ચિહ્નિત થયેલ છે.
  • D
    નીચું $n$ મૂલ્ય ધરાવતી કક્ષકોમાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવાનું,ઊંચું $n$ મૂલ્ય ધરાવતી કક્ષકો કરતા સરળ છે.

Explore More

Similar Questions

$B$ ની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી $Be$ કરતા ઓછી છે. નીચેના વિધાનો ધ્યાનમાં લો:
$(I)$ $2s$ ઇલેક્ટ્રોન કરતા $2p$ ઇલેક્ટ્રોનને દૂર કરવો સરળ છે.
$(II)$ $B$ નો $2p$ ઇલેક્ટ્રોન,$Be$ ના $2s$ ઇલેક્ટ્રોન કરતા આંતરિક ઇલેક્ટ્રોન કોર દ્વારા ન્યુક્લિયસથી વધુ શીલ્ડ થયેલ છે.
$(III)$ $2s$ ઇલેક્ટ્રોન $2p$ ઇલેક્ટ્રોન કરતા વધુ પેનિટ્રેશન પાવર ધરાવે છે.
$(IV)$ $B$ ની પરમાણ્વીય ત્રિજ્યા $Be$ કરતા વધારે છે.
(પરમાણુ ક્રમાંક: $B=5, Be=4$)
સાચા વિધાનો કયા છે?

આયનીકરણ એન્થાલ્પીના વલણમાં નીચેનામાંથી કયા તત્વો શિખર (peaks) પર હોય છે?

નીચેના તત્વોમાંથી,સૌથી વધુ આયનીકરણ ઉર્જા કોની છે?

નીચે આપેલ લીસ્ટ-$I$ અને લીસ્ટ-$II$ ને મેચ કરો અને આપેલા કોડનો ઉપયોગ કરી સાચો જવાબ આપો.
લીસ્ટ-$I$ (ક્રમિક આયનીકરણ એન્થાલ્પી) $\left( kJ \, mol^{-1} \right)$ લીસ્ટ-$II$
તત્વ$IE_1$$IE_2$$IE_3$કોડતત્વ
$1$$2080$$3963$$6130$$(a)$$H$
$2$$520$$7297$$11810$$(b)$$Li$
$3$$900$$1758$$14810$$(c)$$Be$
$4$$800$$2428$$3660$$(d)$$B$
----$(e)$$Ne$

નીચેના તત્વોમાંથી કોની બીજી આયનીકરણ એન્થાલ્પી (second ionisation potential) સૌથી વધુ છે?

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo