सल्फर की इलेक्ट्रॉन बंधुता (electron affinity) है........

ऑक्सीजन परमाणु से ऑक्साइड आयन,$O^{2-}_{(g)}$ के निर्माण के लिए पहले एक ऊष्माक्षेपी और फिर एक ऊष्माशोषी चरण की आवश्यकता होती है जैसा कि नीचे दिखाया गया है:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
इस प्रकार,गैसीय अवस्था में $O^{2-}$ के निर्माण की प्रक्रिया प्रतिकूल है,भले ही $O^{2-}$ नियॉन के साथ आइसोइलेक्ट्रॉनिक है। इसका कारण यह है कि,

हैलोजन की इलेक्ट्रॉन लब्धि एन्थैल्पी $F = 322$,$Cl = 349$,$Br = 324$,$I = 295 \ kJ \ mol^{-1}$ है। $F$ की तुलना में $Cl$ के लिए उच्च मान का कारण क्या है?

$Cl$,$F$,$Te$,और $Po$ की इलेक्ट्रॉन लब्धि एन्थैल्पी का सही क्रम ..... है।

तत्वों के दिए गए इलेक्ट्रॉनिक विन्यास के लिए इलेक्ट्रॉन लब्धि एन्थैल्पी का बढ़ता क्रम क्या है?
$I. 1s^2 2s^2 2p^6 3s^2 3p^5$
$II. 1s^2 2s^2 2p^3$
$III. 1s^2 2s^2 2p^5$
$IV. 1s^2 2s^2 2p^6 3s^1$

निम्नलिखित में से तत्वों के किस युग्म की इलेक्ट्रॉन लब्धि एन्थैल्पी अधिक ऋणात्मक होगी?
$(i)$ $O$ या $F$
$(ii)$ $F$ या $Cl$