આદર્શ વાયુ માટે,અચળ દબાણે પ્રક્રિયાની ઉષ્મા અને અચળ કદે પ્રક્રિયાની ઉષ્મા નીચેનામાંથી કયા સમીકરણ દ્વારા સંબંધિત છે?

$C_{(s)} + \frac{1}{2}O_{2(g)} \to CO_{(g)}$ પ્રક્રિયા માટે અચળ $T$ અને $P$ એ નીચેનામાંથી કયું વિધાન સાચું છે?

જ્યારે નીચેની પરિસ્થિતિઓ હોય ત્યારે તંત્રની આંતરિક ઉર્જામાં થતો ફેરફાર દર્શાવો:
$(i)$ તંત્ર દ્વારા આસપાસમાંથી કોઈ ઉષ્મા શોષાતી નથી,પરંતુ તંત્ર પર કાર્ય $(w)$ કરવામાં આવે છે. તંત્રની દીવાલ કેવા પ્રકારની હશે?
$(ii)$ તંત્ર પર કોઈ કાર્ય થતું નથી,પરંતુ $q$ જેટલી ઉષ્મા તંત્રમાંથી બહાર કાઢીને આસપાસને આપવામાં આવે છે. તંત્રની દીવાલ કેવા પ્રકારની હશે?
$(iii)$ તંત્ર દ્વારા $w$ જેટલું કાર્ય કરવામાં આવે છે અને તંત્રને $q$ જેટલી ઉષ્મા આપવામાં આવે છે. આ કેવા પ્રકારનું તંત્ર હશે?

$FeCO_{3(s)} \to FeO_{(s)} + CO_{2(g)}$ પ્રક્રિયા માટે $25 \ ^oC$ તાપમાને $\Delta H = 82.8 \ kJ$ છે. તો $25 \ ^oC$ તાપમાને $\Delta U$ નું મૂલ્ય $kJ$ માં કેટલું હશે?

એક અલગ કરેલા ચેમ્બરમાં આદર્શ વાયુના મુક્ત વિસ્તરણ દરમિયાન,

જો કોઈ પ્રક્રિયામાં સિસ્ટમ પર $20 \ kJ$ કાર્ય કરવામાં આવે અને તે $10 \ kJ$ ઉષ્મા મુક્ત કરે,તો સિસ્ટમની આંતરિક ઉર્જામાં થતો ફેરફાર ગણો. ($kJ$ માં)