एक अर्धचालक $p-n$ डायोड में, $p$-पक्ष और $n$-पक्ष पर डोपिंग सांद्रता क्रमशः $10^{15} \text{ atoms/cm}^3$ और $10^{18} \text{ atoms/cm}^3$ है। निम्नलिखित में से कौन सा कथन सत्य है?

  • A
    इंटरफ़ेस के दोनों ओर अवक्षय परत (depletion region) की चौड़ाई समान होती है
  • B
    $n$-पक्ष की तुलना में $p$-पक्ष पर अवक्षय परत की चौड़ाई अधिक होती है
  • C
    $p$-पक्ष की तुलना में $n$-पक्ष पर अवक्षय परत की चौड़ाई अधिक होती है
  • D
    $p$ और $n$-पक्षों पर असमान डोपिंग सांद्रता के कारण कोई अवक्षय परत नहीं बनती है

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यदि $Si$ और $Ge$ डायोड का बैरियर विभव क्रमशः $0.7 \ V$ और $0.3 \ V$ है,जैसा कि परिपथ में दिखाया गया है,तो $V_0$ और $I$ के मान ज्ञात कीजिए। यदि $Ge$ डायोड के कनेक्शन को उलट दिया जाए,तो $V_0$ और $I$ के नए मान क्रमशः ज्ञात कीजिए।

एक सर्किट और उसके इनपुट टर्मिनल $(V_i)$ पर लागू सिग्नल नीचे चित्र में दिखाया गया है। कौन सा विकल्प आउटपुट वेवफॉर्म $(V_0)$ का सही वर्णन करता है? (मान लें कि उपयोग किए गए सभी उपकरण आदर्श हैं और $P$ को संदर्भ विभव के रूप में लें।)

Difficult
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नीचे दिखाए गए परिपथ में बैटरी से प्रवाहित होने वाली धारा क्या है ($\text{A}$ में)?

$p-n$ जंक्शन डायोड में विभव प्राचीर (potential barrier) का कारण क्या है?

चित्र में दिखाए गए नेटवर्क में दो आदर्श डायोड जुड़े हुए हैं। $A$ और $B$ के बीच तुल्य प्रतिरोध $.......\Omega$ है।

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