હેલોજન માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) ના મૂલ્યો નીચે મુજબનો ક્રમ દર્શાવે છે:

કઈ પ્રક્રિયામાં ઉર્જાનું શોષણ જરૂરી છે?

કયા તત્વની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) મહત્તમ છે?

ઓક્સિજન અને સલ્ફરની બીજી ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી ($kJ \ mol^{-1}$ માં) અનુક્રમે કેટલી છે?

નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયામાં ઉર્જાનું શોષણ થાય છે?

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન,$O^{2-}_{(g)}$ ની રચના માટે નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પ્રથમ ઉષ્માક્ષેપક અને ત્યારબાદ ઉષ્માશોષક તબક્કાની જરૂર પડે છે:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
આમ,વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ બનવાની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ છે,ભલે $O^{2-}$ એ નિયોન સાથે આઇસોઇલેક્ટ્રોનિક હોય. આનું કારણ એ છે કે,