નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયાઓ મુક્ત મુલક વિસ્થાપન પ્રક્રિયા $(FSR)$,ઇલેક્ટ્રોફિલિક યોગશીલ પ્રક્રિયા $(EAR)$ અને ન્યુક્લિયોફિલિક યોગશીલ પ્રક્રિયા $(NAR)$ દર્શાવે છે?
$I. CH_3-CH=CH_2 \xrightarrow{Cl_2/CCl_4} CH_3-CHCl-CH_2Cl$
$II. CH_3-CO-CH_3 \xrightarrow{HCN/OH^-} CH_3-C(OH)(CN)-CH_3$
$III. CH_3-CH_2-CH_3 \xrightarrow{Cl_2/h\nu} CH_3-CHCl-CH_3$

  • A
    $I-EAR, II-NAR, III-NAR$
  • B
    $I-EAR, II-NAR, III-FSR$
  • C
    $I-FSR, II-EAR, III-EAR$
  • D
    $I-NAR, II-FSR, III-EAR$

Explore More

Similar Questions

આપેલા સંયોજનોમાં,ઇનોલ સામગ્રીનો સાચો ક્રમ કયો છે:
$(I)$ સાયક્લોપેન્ટેનોન
$(II)$ $4$-હાઇડ્રોક્સિસાયક્લોપેન્ટ-$2$-ઇન-$1$-ઓન ડેરિવેટિવ
$(III)$ $\gamma$-બ્યુટાયરોલેક્ટોન ડેરિવેટિવ

ઉપરની પ્રક્રિયામાં,ઇલેક્ટ્રોફાઇલ માત્ર મેટા સ્થાન પર જ વિસ્થાપિત થાય છે,તેનું કારણ છે:
$I$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા ઓર્થો અને પેરા સ્થાન પર વધુ છે
$II$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા ઓર્થો અને પેરા સ્થાન પર પ્રમાણમાં ઓછી છે
$III$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા મેટા સ્થાન પર ઓછી છે
$IV$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા મેટા સ્થાન પર પ્રમાણમાં વધુ છે
સાચો જવાબ છે:

ઉપરની પ્રક્રિયાની મુખ્ય નીપજ કઈ છે?

Difficult
View Solution

કાર્બન-ક્લોરિન બંધનું વિષમ વિભાજન (heterolytic decomposition) શું બનાવે છે?

નીચેની પ્રક્રિયા માટે નીપજ અને પ્રક્રિયાનું નામ ઓળખો:
$
\begin{array}{c}
\text{Decalin-1-one oxime} \rightarrow{H_2SO_4} \text{Product}
\end{array} $

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo