નીચેનામાંથી કયું વિધાન સાચું છે?

Name: Exam Paper Generator | JEE NEET Paper Generator | Vedclass
Brand: Vedclass
Rating: 5 (35 reviews)

Question

(B) દરેક વિકલ્પનું વિશ્લેષણ કરીએ:$A$: $(CH_3)_3SiOH$ એ $(CH_3)_3COH$ કરતા વધુ એસિડિક છે કારણ કે $Si-O$ બંધ વધુ ધ્રુવીય છે અને $Si$ પરમાણુ $p\pi -d\pi$

Vedclass · Accepted Answer

ટ્રાયસિલાઈલ ફોસ્ફિનમાં $p\pi -d\pi$ બેકબોન્ડિંગ થાય છે

Vedclass · Answer

(B) દરેક વિકલ્પનું વિશ્લેષણ કરીએ:$A$: $(CH_3)_3SiOH$ એ $(CH_3)_3COH$ કરતા વધુ એસિડિક છે કારણ કે $Si-O$ બંધ વધુ ધ્રુવીય છે અને $Si$ પરમાણુ $p\pi -d\pi$ બેકબોન્ડિંગ દ્વારા સંયુગ્મી બેઝને સ્થિર કરી શકે છે. તેથી,$A$ ખોટું છે.$B$: ટ્રાયસિલાઈલ ફોસ્ફિનમાં,મધ્યસ્થ પરમાણુ પરની અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મ $Si$ ની ખાલી $d$-કક્ષકોમાં દાન પામે છે,જે $p\pi -d\pi$ બેકબોન્ડિંગ છે. આ સાચું છે.$C$: $SO_2$ માં,બે $S=O$ બંધ હોય છે. દરેક $S=O$ બંધ એક $\sigma$ બંધ અને એક $d\pi -p\pi$ બંધનો બનેલો હોય છે. તેથી,બે $d\pi -p\pi$ બંધ હોય છે. આ પણ સાચું છે.$D$: $H_2SO_4$ માં,મધ્યસ્થ $S$ પરમાણુ $sp^3$ સંકરણ ધરાવે છે. $s$-ગુણધર્મનો અંશ $1/4 = 0.25$ છે. આ પણ સાચું છે.

Similar Questions

નીચેનામાંથી કયો અણુ પ્રકૃતિમાં પેરામેગ્નેટિક (અનુચુંબકીય) નથી?

$H_2^+$,$He_2^+$ અને $He_2^{2+}$ માટે બંધક્રમાંક ગણો.

$CN^-$,$CO$ અને $NO^+$ ઘટકોમાં સામાન્ય બાબત કઈ છે?

$KO_2$,$NO_2^-$,$BaO_2$ અને $NO_2^+$ માંથી અયુગ્મિત ઇલેક્ટ્રોન શેમાં હાજર છે?

નીચેનામાંથી કયા અણુનો બંધ ક્રમાંક $1$ કરતા વધારે છે?

Vedclass Test Series

Exam Paper Generator

Online Exam Module