एक प्रकाश-संवेदी सतह का कार्य फलन $\phi$ है। यदि $3 \phi$ ऊर्जा का एक फोटॉन इस सतह पर गिरता है, तो इलेक्ट्रॉन $4 \times 10^6 \,m/s$ के अधिकतम वेग के साथ बाहर आता है। जब फोटॉन की ऊर्जा को बढ़ाकर $7 \phi$ कर दिया जाता है, तो फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग क्या होगा?

जब धातु पर गिरने वाले विकिरण की तरंग दैर्ध्य $500 \, nm$ से बदलकर $200 \, nm$ कर दी जाती है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा तीन गुना हो जाती है। धातु का कार्य फलन (work function) लगभग $..... \, eV$ है।

एक धातु की देहली आवृत्ति (threshold frequency) $f_0$ है। जब $2f_0$ आवृत्ति का प्रकाश धातु की प्लेट पर आपतित होता है, तो फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $v_1$ है। जब आपतित विकिरण की आवृत्ति को बढ़ाकर $5f_0$ कर दिया जाता है, तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $v_2$ है। $v_1$ और $v_2$ का अनुपात क्या है?

एक निश्चित धात्विक सतह को $\lambda$ तरंगदैर्ध्य वाले एकवर्णी विकिरण द्वारा प्रकाशित किया जाता है। इस विकिरण के लिए फोटोइलेक्ट्रिक धारा का निरोधी विभव (stopping potential) $3V_{0}$ है। यदि उसी सतह को $2\lambda$ तरंगदैर्ध्य वाले विकिरण से प्रकाशित किया जाता है,तो निरोधी विभव $V_{0}$ है। इस सतह के लिए प्रकाश विद्युत प्रभाव की देहली तरंगदैर्ध्य (threshold wavelength) $n\lambda$ है। $n$ का मान ज्ञात कीजिए।

प्रकाश तरंग का विद्युत क्षेत्र $\vec E = 10^{-3} \cos \left( \frac{2\pi x}{5 \times 10^{-7}} - 2\pi \times 6 \times 10^{14} t \right) \hat x \, N/C$ द्वारा दिया गया है। यह प्रकाश $2 \, eV$ कार्य फलन वाली धातु की प्लेट पर गिरता है। फोटोइलेक्ट्रॉन का निरोधी विभव (stopping potential) ................ $V$ है।

जब एकवर्णी प्रकाश का एक बिंदु स्रोत एक फोटोइलेक्ट्रिक सेल से $0.2 \ m$ की दूरी पर होता है,तो स्टॉपिंग पोटेंशियल और संतृप्त फोटोइलेक्ट्रिक धारा क्रमशः $0.6 \ V$ और $18 \ mA$ होती है। यदि उसी स्रोत को फोटोइलेक्ट्रिक सेल से $0.6 \ m$ दूर रखा जाए,तो: